A4 series
节能干燥多级罗茨泵，适用于所有半导体和涂层应用。

新一代苛刻的工艺流程泵
普发真空引入了新的A4系列。半导体生产中苛刻的工作流程总是给真空泵带来新的挑战。基于已证明和节能的多阶段根系技术，A4系列提供了一系列的干泵解决方案，不同的泵送速度从100到2300 m3/h。与以往的工艺泵相比，为了满足20纳米技术节点和以下的最新要求，腐蚀和副产物的冷凝性能得到了显著的提高。在延长的工艺寿命与低能耗相关联的情况下，A4系列泵是在市场中成本最低的。

为多个应用程序提供完整的解决方案
我们的新A4系列包括两款产品线，它们完全与前系列产品的泵完全兼容。我们提供了三种用于非关键应用程序的泵模型和十种不同的模型供您选择，用于在关键应用程序中进行最严酷的处理。

延长工作温度范围
泵配备有扩展温度管理装置，其覆盖低至高的操作温度，以防止泵内的副产物沉积或破裂。与高温精密轴承相关，提高了工艺的可靠性。

高耐蚀性
使用耐腐蚀材料，我们的A4X系列泵的寿命大幅度地提高了——在某些工艺过程中高达2倍。这使得这些干泵成为了化学汽相淀积和腐蚀处理的最佳选择。

CVD应用最有效的解决方案
由于采用了多级罗茨泵技术和高效率发动机，在工艺操作中，A4系列的功耗是其同类产品中最低的一个。结合了闲置模式的能力和用户友好的转速调整，这些干泵的使用支持最优的降低运营成本。

智能
A4系列配备了新的精密监测系统，包括新的功能，以改善故障的发生，并防止在过程操作过程中产生晶片碎片。

维修费用低
通过改进粒子耐受性，腐蚀和冷凝阻力，可以延长维修间隔和泵的寿命，这意味着额外的操作成本降低了。不需要现场例行维护。

客户受益
■ 高能源效率得益于多阶段的技术，高效的马达和有限的电加热器
■ 广泛的操作温度范围保护泵不受前体破裂或凝缩沉积作用的阻碍
■ 延长寿命的耐腐蚀材料
■ 高平均无故障时间和低拥有成本
■ 高粒子宽容增加正常运行时间的工具
■ 扩展的监视功能可以更好地控制泵的状况
■ Semi S2和UL兼容

尺寸
A 124A 1204 H A 1504 H/X A 1804 H/X A 2404 H/X H A 204 H/X A 604 H A 804 H/X
ADH 系列
用于最新工艺应用的新型高性能干式泵

新型高性能干式泵
ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的苛刻工艺应用而开发，为N2 和 H2 提供 600 至 4,500 m3/h 的高性能抽速。

半导体： H2 高抽速
ADH系列产品性能为您的工艺带来以下优势：
ALD工艺处理量：小分子气体的高抽速效率可以允许更快的在工艺步骤之间排空腔室。
外延和EUV：高抽速和大流量公差符合最苛刻的工艺规范。

太阳能和LED：氢气准备就绪
ADH系列为太阳能（a-Si 和 μ-Si PECVD）以及LED（MOCVDGaN，AlGaAs，AlGalnP...）提供最佳的氢气抽送效率。
AD 600 H AD 3060 H AD 4560 H